Thứ Hai, 02/11/2026
Logo Cơ quan thường trực 81 (SOVNPA 81) Cơ quan đầu mối quốc gia Việt Nam
về phòng, chống phổ biến vũ khí hủy diệt hàng loạt
Cơ quan thường trực 81

3.C.1.Vật liệu dị epitaxy, không được quy định tại 3C507, gồm một "chất nền" có nhiều lớp xếp chồng được tăng trưởng epitaxy của bất kỳ vật liệu nào sau đây:

Danh mục
Wassenaar – Danh mục hàng hóa và công nghệ lưỡng dụng – WA-LIST (25) 1
Mục tương ứng của EU
3C001
a. Silic (Si);
b. Germani (Ge);
c. Silicon carbide (SiC);
d. "Hợp chất III/V" của gallium hoặc indium;
e. Gallium oxide (Ga2O3); hoặc
f. Kim cương.
Chú thích:
3C001.d. không kiểm soát "chất nền" có một hoặc nhiều lớp epitaxy loại P của GaN, InGaN, AlGaN, InAlN, InAlGaN, GaP, GaAs, AlGaAs, InP, InGaP, AlInP hoặc InGaAlP, không phụ thuộc vào thứ tự của các nguyên tố, trừ trường hợp lớp epitaxy loại P nằm giữa các lớp loại N.
Nguyên văn tiếng Anh
a. Silicon (Si);
b. Germanium (Ge);
c. Silicon Carbide (SiC);
d. "III/V compounds" of gallium or indium;
Note 3.C.1.d. does not apply to a "substrate" having one or more P-type epitaxial layers of GaN, InGaN, AlGaN, InAlN, InAlGaN, GaP, GaAs, AlGaAs, InP, InGaP, AlInP or InGaAlP, independent of the sequence of the elements, except if the P-type epitaxial layer is between N-type layers.
e. Gallium Oxide (Ga₂O₃); or
f. Diamond.